化粧下地 部分用 毛穴カバー 毛穴レス カバー力 プライマー CCクリーム 毛穴 皮脂 化粧直し 皮脂崩れ ベースメイク メイクカバーフラットベース

<br>【商品説明】
<br>パテ効果とソフトフォーカス効果で凸凹(毛穴、シワ)を目立たなくさせる即効性があります。テカリを抑える<br>効果もあり経時での化粧崩れを防ぎます。

<br>1:ライトフィーリングゲル、パウダー成分配合
<br>→伸縮ゲルが肌にフィットし凸凹を均等に埋めてくれます。
<br>2:美肌加工 フィルター級の仕上がり。
<br>→パテ効果、ソフトフォーカス効果で凸凹、毛穴をぼかして目立たなくする。
<br>3:保湿成分5種類配合
<br>→ヒアルロン酸、セラミド、カンゾウ根エキス、カミツレ花エキス、水溶性コラーゲン
<br>4:5つのフリー
<br>→パラベン、鉱物油、旧表示指定成分、タール系色素、合成香料
<br>5:肌なじみの良いポーセリンベージュです。

<br><br>【ご使用方法】
スキンケアのあと、指先に少量ずつとり、毛穴やテカリが気になる部分になじませてください。

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■商品詳細
●広告文責 GR株式会社
03-5574-8890

●成分表示
シクロペンタシロキサン、水、(ビニルジメチコン/メチコンシルセスキオキサ ン)クロスポリマー、シリカ、エタノール、パルミチン酸エチルヘキシル、ジメチコ ン、BG、PEG-9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン、ジメチコンクロ スポリマー、クエン酸Na、トコフェロール、セラミドAP、マイカ、グリセリン、 ヒドロキシアパタイト、ポリクオタニウム-61、酸化亜鉛、カンゾウ根エキス、 ヒアルロン酸Na、カミツレ花エキス、ハマメリス葉エキス、水溶性コラーゲン、 セチルPEG/PPG-10/1ジメチコン、ジフェニルシロキシフェニル トリメチコン、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、ジステアルジモ ニウムヘクトライト、塩化Na、ペンチレングリコール、トリベヘニン、フェノキシ エタノール、酸化チタン、タルク、酸化鉄、トリエトキシカプリリルシラン、水酸 化Al
●内容量 20g
●生産国 日本製
●商品区分 化粧品 化粧下地

【使用上の注意】
●傷やはれもの、しっしん等異常のある部位には使用しないでください。
●肌に異常が生じていないかよく注意して使用してください。化粧品が肌に合わないとき、即ち次のような場合は使用を中止してください。そのまま使用を続けますと症状を悪化させることがありますので、皮膚科専門医等にご相談されることをおすすめします。
(1) 使用中、赤み、はれ、かゆみ、刺激、色抜け(白斑等)や黒ずみ等の異常があらわれた場合
(2) 使用した肌に直射日光があたって上記のような異常があらわれた場合
●目に入らないようご注意ください。万一、目に入ったときは直ちに水かぬるま湯で洗い流してください。
●乳幼児の手の届かないところに保管してください。
●高温や低温の場所、直射日光のあたる場所には置かないでください。
●使用後は必ずキャップを閉めてください。
●効果・効能については、個人差があります。

製品に記載されている製造販売元(以下「製販元」)の社名・住所変更に伴い、順次「TOA株式会社」へと表記の切替を行います。
この切替によって製品の品質・安全性に変更はございません。