Ｘ線反射率法入門 （新版）

目次

１　Ｘ線反射率の基礎
２　Ｘ線反射率の測定装置と測定方法
３　Ｘ線反射率のデータ解析法
４　Ｘ線反射率のデータ解析の注意事項
５　微小領域分析およびイメージングへの展開
６　時々刻々変化する系の追跡への展開
７　Ｘ線反射率法の応用
８　Ｘ線反射率法と併用すると有意義な関連技術
９　中性子の利用

著者等紹介

桜井健次［サクライケンジ］
工学博士。１９８８年東京大学大学院工学系研究科博士課程修了。現在、国立研究開発法人物質・材料研究機構先端材料解析研究拠点上席研究員。筑波大学大学院教授を兼務（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

出版社内容情報

日本初のＸ線反射率法に関する専門書が９年ぶりの増補改訂。原理、実験方法、データ解析法、多彩な材料への応用事例を網羅。【本書の特徴】
・表面・界面におけるＸ線の全反射現象の基礎をわかりやすく説明した。
・実験方法やデータ解析法を具体例とともにていねいに解説した。
・なぜこれほど精密な解析ができるのか、どんな点に注意を払わなくてはいけないかなどについて、ユーザーの立場から詳細に解説した。
・半導体、磁性体、光学多層膜、固液界面、有機薄膜、液体表面などの応用事例を紹介し、中性子の利用についても取り上げた。

1　X線反射率の基礎
2　X線反射率の測定装置と測定方法
3　X線反射率のデータ解析法
4　X線反射率のデータ解析の注意事項
5　微小領域分析およびイメージングへの展開
6　時々刻々変化する系の追跡への展開
7　X線反射率法の応用
1.1　光とX線
1.2　X線反射率法の特徴
1.3　膜密度はどのように決まるか
1.4　膜厚はどのように決まるか
1.5　膜の表面・界面粗さはどのように決まるか
1.6　いろいろな反射率計算法
1.7　結晶からの反射率
1.8　共鳴磁気反射率
1.9　コヒーレンスとコヒーレント回折
1.10　実際の測定とデータ解析の基礎
2.1　X線反射率測定装置に必要な条件
2.2　X線反射率測定装置の実際
2.3　反射率の測定方法
2.4　散漫散乱測定
2.5　平行X線ビームと2次元検出器の組み合わせによる測定
3.1　はじめに
3.2　X線反射率のデータ解析の前に
3.3　最小二乗法フィッティングによる膜構造解析の手順
3.4　単層膜の解析と精度の評価
3.5　多層膜の解析と精度の評価
3.6　多波長X線反射率法
3.7　2波長法による多層膜構造解析
3.8　3波長法による多層膜構造解析
3.9　反射率解析の今後
3.10　まとめ
4.1　はじめに
4.2　理論反射率の与えるプロファイルの一意性について
4.3　個々のパラメータのX線反射率プロファイルへの寄与の仕方
4.4　最小二乗フィッティング計算に由来する問題
4.5　構造モデルに過度に依存しない解析の試み
4.6　おわりに
5.1　顕微鏡・イメージング手法とX線反射の融合
5.2　放射光ナノビームによる微小領域分析
5.3　高エネルギー白色X線による微小領域分析
5.4　画像再構成法によるイメージング
5.5　微小領域分析・イメージングの今後
6.1　はじめに
6.2　多チャンネルX線反射率法（Naudonの方法）
6.3　白色X線反射スペクトル法
6.4　従来の角度走査型の装置によるその場計測
6.5　時々刻々変化する系を追跡するX線反射率計測の近未来
7.1　半導体薄膜
7.2　ハードディスク
7.3　X線光学用多層膜
7.4　電気化学界面などの固液界面
7.5　有機・高分子薄膜
7.6　液体の表面，界面，単分子膜
8　X線反射率法と併用すると有意義な関連技術
8.1　微小角入射蛍光X線分析法
8.2　微小角入射X線回折法;

桜井 健次［サクライ ケンジ］
著・文・その他/編集